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公司自主研發(fā)新一代的等離子清洗設備，外觀大方簡潔，質量可靠，性能穩(wěn)定，廣泛應用于納米材料學，半導體，微電子，光學，電子學，醫(yī)藥學，環(huán)境學，微流控生物學，LED，石墨烯等不同領域。 主要用于以下實驗：表面清潔、表面活化、鍵合、去膠、金屬還原、簡單刻蝕、器械的消毒、去除表面有機物、疏水實驗、鍍膜
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