等離子清洗機和超聲波清洗機的區(qū)別有哪些?首先一種干法清洗，主要清洗很微小的氧化物和污染物。它是用工作氣體在電磁場的作用下激發(fā)出等離子體與物體表面產(chǎn)生物理和化學反應，從而達到清洗的目的;而超聲波清洗機是一種濕法清洗，主要是清洗很明顯的灰塵和污染物，屬于一種粗略的清洗。它是用液體(水或者溶劑)在超聲波的震動作用下對物體進行清洗，從而達到清洗的目的。
 

　　等離子清洗原理與超聲波原理不同，當艙體里接近真空狀態(tài)時，開啟射頻電源，這時氣體分子電離，產(chǎn)生等離子體，并且伴隨輝光放電現(xiàn)象，等離子體在電場下加速，從而在電場作用下高速運動，對物體表面發(fā)生物理碰撞，等離子的能量足以去除各種污染物，同時氧離子可以將有機污染物氧化為二氧化碳和水蒸氣排出艙體外。等離子清洗不需要其他的原料，只要空氣就能夠滿足要求，使用方便而且沒有污染，同時比超聲波清洗更具有的優(yōu)勢是等離子不但可以進行表面清洗，更重要的是可以提高表面活性，等離子體與物體表面進行化學反應能夠產(chǎn)生活性化學集團，這些化學集團有很高的活性，從而應用范圍很廣，比如提高材料表面粘接能力，提高焊接能力，邦定性，親水性等等很多方面，因此等離子清洗已經(jīng)成為清洗行業(yè)的主流與趨勢。
 

　　等離子清洗機是利用等離子體來對材料表面進行處理。等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。 等離子體清洗技術的大特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現(xiàn)整體和局部以及復雜結構的清洗。超聲波清洗機是利用超聲波發(fā)生器所發(fā)出的交頻訊號，通過換能器轉換成了交頻機械振蕩而傳播到介質——清洗液中，強力的超聲波在清洗液中以疏密相間的形式向被洗物件輻射。產(chǎn)生“空化”現(xiàn)象，即在清洗液中“氣泡”形式，產(chǎn)生破裂現(xiàn)象。當“空化”在達到被洗物體表面破裂的瞬間，產(chǎn)生遠超過1000個大氣壓力的沖擊力，致使物體的面、孔、隙中的污垢被分散、破裂及剝落，使物體達到凈化清潔。主要適用于商業(yè)、輕工、大專院校、科研用小批量的清洗、脫氣、混勻、提取、細胞粉碎之用。
 

　　等離子清洗是干式清洗，超聲波清洗是濕法清洗，在經(jīng)過等離子清洗以后，被清洗物體已經(jīng)很干燥，不必再經(jīng)干燥處理即可送往下道工序。
 

　　正因為等離子清洗機是干式清洗，所以等離子清洗不使用ODS有害溶劑，清洗后也不會產(chǎn)生有害污染物，屬于有利于環(huán)保的綠色清洗方法。
 

　　等離子清洗機和超聲波清洗機大的區(qū)別在于，等離子清洗在完成清洗去污的同時，還能改變材料本身的表面性能，如提高表面的潤濕性能，改善膜的附著力等，這在許多應用中都是非常重要的。