不同等離子體產(chǎn)生的自偏壓不一樣，超聲等離子體的自偏壓為1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓zui低，只有幾十伏。

機制也不同：

  超聲等離子體發(fā)生的反應為物理反應，射頻等離子體發(fā)生的反應既有物理反應又有化學反應，微波等離子體發(fā)生的反應為化學反應。超聲等離子體清洗對被清潔表面產(chǎn)生的影響zui大，因而實際半導體生產(chǎn)應用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。而超聲等離子則應用于表面除膠、毛刺打磨等處理方面效果*，典型的等離子體物理清洗工藝是在反應腔體中加入氬氣作為輔助處理的等離子體清洗；氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應，而是通過離子轟擊使表面清潔。

  典型的等離子體化學清洗工藝是氧氣等離子體清洗。通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基非常活潑，容易與碳氫化合物發(fā)生反應，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。 以物理反應為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其優(yōu)點在于本身不發(fā)生化學反應，清潔表面不會留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學純凈性，還有一種等離子體清洗是表面反應機制中物理反應和化學反應都起重要作用，即反應離子腐蝕或反應離子束腐蝕，兩種清洗可以互相促進，離子轟擊使被清洗表面產(chǎn)生損傷削弱其化學鍵或者形成原子態(tài)，容易吸收反應劑，離子碰撞使被清洗物加熱，使之更容易產(chǎn)生反應；選用40KHZ超聲等離子再加入適當?shù)姆磻獨怏w，可以有效去除膠質(zhì)殘渣、金屬毛刺等等，2.45G的微波等離子常用于科研方面及實驗室。